Freiheit und Muster – Patterns and Freedom | 28.05. bis 03.06.2016

Welche Muster brauchen wir und wo können Raster unterlaufen werden? Wo liegen Unmöglichkeiten und Ordnungen? Welches sind die Grenzen und Überlappungen? Wie können wir den Raum begreifen und ergreifen, wenn wir von Papier, Drucktechnik und Farbwirkung ausgehen?

Vom 28. Mai bis 03. Juni 2016 präsentieren wir Ergebnisse aus dem Workshop „Muster und Freiheit“, erarbeitet mit den Gästen Lauren Alexander (www.foundland.info) und Niels Schrader (www.minddesign.info) mit ihrem Schwerpunkt „Political Patterns“ und unter Berücksichtigung persönlicher und politischer Ausgangspunkte und Ästhetiken. Produziert wurden die Arbeiten in verschiedenen Formaten mit dem Risographen, die Ergebnisse sind als einzelne Heftchen, als eigener Raum und als Sammlung in einer Bindung zu sehen.

Mit Beiträgen von:
Sujin Beak
Judith Bornmann
George Demir
Pauline Fabry
Leah-Lilith Heeren
Jelena Ilic
Eszter Jánka
Katharina Mayer
Anna Verena Müller
Eunjin Park
Michelle Park
Luisa Stricker
Luka Lara Charlotte Steffen
Qimeng Sun

Technische Unterstützung: Matthias Conrady.